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    pH環境對于不同純度氧化鋁顆粒Zeta電位的影響

    更新時間:2024-09-09      點擊次數:5829

    氧化鋁是一種常見的無機氧化物,其廣泛應用于陶瓷、醫藥、電子、機械等行業。氧化鋁的純度不同,應用的領域也有所差異,例如:99氧化鋁瓷材料用于制作高溫坩堝、耐火爐管及特殊耐磨材料,如陶瓷軸承、陶瓷密封件及水閥片等;95氧化鋁瓷主要用作耐腐蝕、耐磨部件。物質的組成不同其表面帶電也具有極大差別,包括電性和帶電量,而表面帶電情況將會影響材料的性能和應用領域。在這個應用中,我們考察了不同純度的氧化鋁材料在不同pH值環境中的Zeta電位。

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    原理和設備                                                      

    采用丹東百特儀器有限公司的BeNano 90 Zeta 納米粒度及 Zeta電位分析儀以及BAT-1自動滴定儀。

    電泳光散射技術ELS是利用激光照射在樣品溶液或者懸浮液上,檢測前向角度的散射光信號。在樣品兩端施加一個電場,樣品中的帶電顆粒在電場力的驅動下進行電泳運動。由于顆粒的電泳運動,樣品的散射光的頻率會產生一個頻移,即多普勒頻移。利用數學方法處理散射光信號,得到散射光的頻率移動,進而得到顆粒的電泳運動速度,即電泳遷移率μ。通過Herry方程,我們把顆粒的電泳遷移率和其Zeta電位ζ聯系起來:

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    其中ε為介電常數,??為溶劑粘度,f(κα)為Henry函數,κ為德拜半徑倒數,α代表粒徑,κα代表了雙電層厚度和顆粒半徑的比值。

     我們采用丹東百特儀器有限公司的BeNano 90 Zeta 納米粒度及 Zeta電位分析儀進行測試。儀器使用波長671 nm,功率50 mW激光器作為光源,設置在12度角的APD檢測器進行散射光信號采集。采用PALS相位分析光散射技術,可以有效檢測低電泳遷移率樣品的Zeta電位信息。

     

    樣品制備和測試條件

    分別將純度為95%和99%的氧化鋁,按照0.2mg/ml配比分散在蒸餾水中,使用50W超聲波將其分散3min后得到兩份平行樣品。通過BeNano 90 Zeta 納米粒度及 Zeta電位分析儀和BAT-1自動滴定儀相配合,以樣品分散后的pH環境為起點,使用HCl滴定液向低pH范圍滴定,使用NaOH滴定液向高pH范圍滴定,測試pH間隔為1,檢測pH值設定在2-12之間Zeta電位的變化。

     

    測試結果和討論

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    圖1.95%氧化鋁和99%氧化鋁Zeta電位pH滴定結果

    物質的Zeta電位由其表面的化學組成和周圍的液體環境決定,雖然這兩個樣品的主要成分都是氧化鋁,但是其純度有所差別,95%的氧化鋁含有更多其他組分化學物質。通過圖1對于兩個不同純度的氧化鋁樣品的Zeta電位pH滴定結果可以看到,使用同樣的蒸餾水進行超聲分散,95%氧化鋁樣品的初始pH值在10左右,懸浮體系呈現弱堿性,滴定曲線的等電點為7.86;而99%氧化鋁的分散后懸浮體系為pH值在7附近的近中性體系,等電點為5.18。由此可以得出對于同一物質而言,其純度不同,對其Zeta電位的影響是巨大的。

     

     

     

     

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